Разработана технология прямой лазерной записи дифракционных структур на двухслойных материалах

Моя цель - предложение широкого ассортимента товаров и услуг на постоянно высоком качестве обслуживания по самым выгодным ценам.

В Институте автоматики и электрометрии СО РАН в лаборатории дифракционной оптики осуществляется разработка и исследование термохимической технологии прямой лазерной записи на двухслойных металлосодержащих материалах. В частности, исследовалось использование металлических пленкок подгрупп хрома и титана. Полученные результаты расширяют возможности термохимической лазерной записи микроструктур и элементов дифракционной оптики. Работа выполнена в рамках проекта Российского научного фонда. О результатах исследования можно прочесть на страницах научных журналов Photonics и Optica Publishing Group.

Микроизображения записанных структур (Т - на пропускание, R - на отражение): (а) на Si/Ti до (сверху) и после (снизу) стравливания слоя Si; (б) на Zr/SiO2; (в) фотография дифракционной линзы (Ø 50 мм), записанной на Si/Cr; (г) этапы проявления маски, записи
Микроизображения записанных структур (Т - на пропускание, R - на отражение): (а) на Si/Ti до (сверху) и после (снизу) стравливания слоя Si; (б) на Zr/SiO2; (в) фотография дифракционной линзы (Ø 50 мм), записанной на Si/Cr; (г) этапы проявления маски, записи

«Идея напыления покровного слоя кремния на плёнку титана для задач прямой лазерной записи возникла из необходимости защиты от окисления в воздушной атмосфере. При этом в процессе исследования прямой термохимической лазерной записи на такой двухслойной плёнке Si/Ti (кремний/титан) было обнаружено, что в отличие от лазерной записи на плёнке чистого титана, для которой характерно оксидирование металлической плёнки, при лазерном воздействии на плёнку Si/Ti образуется титан-силицидная маска. Использование термохимической реакции образования силицидов существенно расширило скорость сканирования и диапазон мощности лазерного пучка для термохимической записи на плёнке Ti и улучшило пространственное разрешение. Это позволяет осуществлять лазерную запись на такой двухслойной плёнке с высокой скоростью с более высоким разрешением и большими возможностями по управлению шириной записываемой линии», − рассказывает научный сотрудник, к.т.н. Дмитрий Белоусов.

Термохимическая технология прямой лазерной записи на плёнках Cr (хрома) в настоящее время активно используется для изготовления элементов дифракционной оптики. Данная технология является многоэтапной. Одним из критических этапов, приводящих к браку изготавливаемых элементов, является этап проявления записанного рисунка. Процесс образования хромово-силицидной маски при термохимической лазерной записи на двухслойной плёнке Si/Сr (кремний/хром) благодаря её уникальной селективности к стандартному травителю хрома, позволил решить эту проблему, а также расширить диапазон мощности лазерного пучка для термохимической записи на плёнке хрома, что позволило более детально управлять шириной записываемой линии и улучшило пространственное разрешение. В результате исследования была разработана технология изготовления элементов дифракционной оптики с помощью термохимической лазерной записи на двухслойных плёнках Si/Cr.

При прямой лазерной записи на плёнках Zr (циркония), напылённых на подложку SiO2 (плавленый кварц), был обнаружен эффект аномально высокой разности фаз при отражении света между экспонированными лазерным пучком и исходными участками материала Zr/SiO2. Данный эффект был использован для формирования отражательных решёток с дифракционной эффективностью свыше 30% по полностью «сухой» технологии (без жидкостного селективного травления). Это позволяет отказаться от критического этапа жидкостного травления записанного рисунка и существенно упростить процесс изготовления элементов дифракционной оптики, работающих на отражение падающего излучения.

Учёные из ИАиЭ СО РАН также обнаружили, что при прямой лазерной записи на исследуемых двухслойных материалах Zr/SiO2, Si/Ti и Si/Cr имеет место значительное изменение отражения от экспонированных участков. Это позволяет реализовать оперативный контроль формируемого рисунка без его проявления, непосредственно на установке лазерной записи, и даёт возможность более точно подбирать параметры лазерного записывающего пучка для формирования рельефа элементов дифракционной оптики с требуемыми характеристиками.

Источник: https://habr.com/ru/news/783862/


Интересные статьи

Интересные статьи

Infrastructure as Code — это подход, который подразумевает описание инфраструктуры в виде коде с его последующим применением для внесения необходимых изменений. Но, как именно писать код, IaC не говор...
Появление криптовалют и блокчейна — очень важное событие в мире IT. За относительно короткое время своего существования эти технологии сделали огромный рывок, превратившись из небольших проектов в гло...
Технологии, основанные на квантовых эффектах, обладают интересной двойственностью: с одной стороны, они давно стали реальностью (достаточно вспомнить о транзисторах и лазерах) и продолжаю...
Hal 9000 прекрасно читал по губам, правда, по-английски Нейросети сейчас умеют многое, и постепенно их обучают все большему количеству умений. На днях стало известно о том, что объединенная ...
Инженеры из MIT разработали математическую модель, которая может увеличить производительность сетей IaaS-провайдеров. В ее основу легли некоторые подходы, используемые профессиональными инвестора...